小核酸专利争夺核心在GalNAc递送、化学修饰与序列设计，国产企业需以差异化组合专利突围。 要点：小核酸专利壁垒由GalNAc递送、化学修饰和序列设计三类专利簇叠加构成。；Alnylam在GalNAc-siRNA与siRNA修饰模式上占优，Ionis在ASO修饰及gapmer设计上壁垒深厚。；GalNAc规避需从配体价态、糖环、连接子和偶联位点做差异化设计，并开展系统FTO分析。；化学修饰专利常以马库什结构和修饰模式覆盖，规避难度通常高于序列专利。；国产企业应转向组合专利、全球PCT布局、交叉许可和专利池，并在新靶点或肝外递送寻求突破。